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技術服務

TECHNICAL SERVICE

光氧化技術

光催化氧化技術已成熟應用于低濃度惡臭污染場所的空氣凈化中。所謂光催化氧化反應(見光催化氧化原理圖),就是讓波長為100nm~300nm的紫外線或其他一定能量的關照射光敏半導體催化劑時,激發半導體的價帶電子發生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子(e-)和空穴(h+)。

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此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。而超氧負離子和氫氧自由基具有很強的氧化性,能使有機污染物氧化分解,如果保證足夠的停留時間,能氧化最終的產物CO2和H2O

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光催化氧化技術優點

(1)反應條件溫和,常溫常壓下即可進行。無需再另外添加任何氧化劑如臭氧(O3)、H2O2等化學藥劑,避免了進一步的化學污染,并降低了成本;

(2)能耗低;

(3)基本上無二次污染

(4)適用性廣

(5)在處理污水站惡臭廢氣過程中,同時具有殺菌作用。工藝及設備簡單、占地面積小、易于操作控制。

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